Hochvakuum-Schalter (GN)
Für Hochvakuum bis
10-5 Pa
Von großen Halbleiter-Herstellern eingesetzt zur Positionierung von Wafern und Masken in Vakuum-Aufdampfanlagen und in Sputtering-Anlagen.
Produktliste
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| GN-PT5M3B | SHOP NOW |
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Elektrische Spezifikation｜ Optionen/Hinweise｜ Technische Anleitung
Technische Eckdaten
| Schalterstruktur | Form des Kontaktpunkts |
|---|---|
| Ausgangsart | B: normal geschlossen |
| Wiederholgenauigkeit | ON → OFF/OFF → ON je 0,003 mm (Wert bei normaler Temperatur) |
| Vakuumgrad/Baking-Toleranztemperatur | 10-5 Pa/120℃ |
| Vorlaufweg | keine (die Montageposition des Schalters wird mit dem Umschaltpunkt des Signals eingestellt) |
| Hysterese | 0 |
| Mechanische Lebensdauer | 3 Mio. Schaltvorgänge |
| Hub | 1,5 mm |
| Berührungskraft | 0,5 N |
| Kontaktpunkt-Nennspannung | DC 5 V – DC 24 V stabiler Strom bis 10 mA (Einschaltstrom unter 20 mA) |
Anwendungen
Vakuumkammer
Feststellen des Vorhandenseins des Halbleiter-Wafers
Vakuum-Filmanlage
Positionierung des Glassubstrats
Vakuum-Anlage für Fotovoltaik
Positionierung des Glassubstrats
Vakuum-Filmanlage für FPD
Ausrichten des Glassubstrats
Vakuum-Filmanlage für FPD
Feststellen des Sitzes der Maske auf dem Schieber
Vakuum-Filmanlage für FPD
Nullstellung der Transportvorrichtung
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